美國施壓！荷蘭光刻機壟斷廠商 ASML 或被禁出口大陸
雷鋒網(公眾號：雷鋒網)消息，據微博用户鼎盛風清稱，荷蘭政府將根據瓦森納國際協議，禁止阿斯邁（ASML）公司向中國出口極紫外（EUV）光刻機。
不過，雷鋒網了解到，該消息還未最終證實。
雷鋒注：圖為微博截圖
美國施壓荷蘭，禁止向中國出口 EUV 光刻機
據《路透社》報道，美國方面為“阻止荷蘭向中國出售芯片製造技術”，暗中進行了大量工作。據悉，美國的單方面 “阻止運動” 開始於 2018 年，荷蘭政府向 ASML 發放了出口許可證，允許其向中國公司中芯科技出口一台價值 1.5 億美元的 EUV 光刻機。
據消息人士透露，在荷蘭政府發放出口許可證之後的幾個月中，美國的政府官員仔細研究了他們是否可以徹底阻止出售，並與荷蘭政府相關人士進行了至少四輪談判。
2019 年 7 月 18 日，美國總統國家安全事務代理助理 Charles Kupperman 給到訪華盛頓的荷蘭首相馬克 · 呂特一份祕密情報，報告中大談“中國獲得光刻機的可能後果”。在馬克 · 呂特訪問過白宮不久之後，荷蘭政府選擇不續簽 ASML 的出口許可。
雷鋒網注：圖源網易
而對於此前已經購買的價值 1.5 億美元的 EUV 光刻機，原計劃應在 2019 年年初就交付到中國。不過，後來 ASML 方面因倉庫遇火延後了 EUV 光刻機的交付時間，改為在 2020 年的年中交付。
在媒體首次報道延遲交貨時，荷蘭 ASML 公司表示，公司仍在等待新許可證申請的批准，並拒絕進一步給予評論。
另外，對於美國政府的施壓的説法，荷蘭外交部發言人在 1 月 15 日表示，在決定是否簽發出口許可證時，荷蘭政府要權衡經濟和安全利益。
關於此事，中國方面也表明了態度。2020 年 1 月 17 日，據《金融時報》報道，中國駐荷蘭大使徐宏在採訪中表示，如果媒體報道屬實，即如美國向荷蘭施壓，荷蘭政府因此不再批准向中國出口 EUV 光刻機，那麼這種做法就是典型的將商業問題政治化。按照相關法律及國際協議，美國沒有理由要求荷方限制 ASML 對華出口。
另外，徐宏還表示，希望荷蘭政府能綜合考慮自身利益、荷蘭企業利益，本着公平貿易及法治的精神，作出正確判斷。如果荷蘭政府在政策取向上追隨美國，基於政治原因對中荷經貿往來施加不公平的限制，毫無疑問將會影響兩國合作。因為所有的合作都應當是對等互惠的。
EUV 光刻機是何物？
在主流微電子製造過程中，光刻是最複雜、昂貴和關鍵的工藝，佔總成本的 1/3；目前的 28nm工藝則需要 20 道以上光刻步驟，耗費時間約佔整個硅片工藝的 40-60%。
光刻工藝決定着整個 IC 工藝的特徵、尺寸，代表着工藝技術發展水平。由於高技術要求，光刻機制造難度極大，全世界只有少數幾家公司能夠製造，主要有 ASML、Nikon 和 Canon 等。
而 EUV 光刻機作為現今最先進的芯片製造設備，是唯一能夠生產 7nm 以下製程的設備，因此，其也被稱為“突破摩爾定律的救星”。也就是説，必須使用 EUV 光刻機才能使半導體芯片進入 7nm，甚至 5nm 時代。
在 EUV 光刻機的生產上，ASML 公司是該領域的領軍企業，同時也是全球唯一能生產 EUV 的企業。
據了解，ASML 的設備使用由激光產生，並通過巨型鏡子聚焦的極紫外（EUV）光束，在硅片（被稱為晶圓）上鋪設非常狹窄的電路。這能讓廠商製造更快、更強大的微處理器、內存芯片和其他先進元件；而這些元件不論是對消費類電子產，還是對軍事應用來説都至關重要。
另外，值得一提的是，目前，國內光刻機廠商有上海微電子、中電科集團四十五研究所、合肥芯碩半導體等，但由於技術難度巨大，但短期內還是處於相對劣勢的地位。
雷鋒網原創文章，未經授權禁止轉載。詳情見轉載須知。
資料來源：雷鋒網
作者/編輯：肖漫
不過，雷鋒網了解到，該消息還未最終證實。
雷鋒注：圖為微博截圖
美國施壓荷蘭，禁止向中國出口 EUV 光刻機
據《路透社》報道，美國方面為“阻止荷蘭向中國出售芯片製造技術”，暗中進行了大量工作。據悉，美國的單方面 “阻止運動” 開始於 2018 年，荷蘭政府向 ASML 發放了出口許可證，允許其向中國公司中芯科技出口一台價值 1.5 億美元的 EUV 光刻機。
據消息人士透露，在荷蘭政府發放出口許可證之後的幾個月中，美國的政府官員仔細研究了他們是否可以徹底阻止出售，並與荷蘭政府相關人士進行了至少四輪談判。
2019 年 7 月 18 日，美國總統國家安全事務代理助理 Charles Kupperman 給到訪華盛頓的荷蘭首相馬克 · 呂特一份祕密情報，報告中大談“中國獲得光刻機的可能後果”。在馬克 · 呂特訪問過白宮不久之後，荷蘭政府選擇不續簽 ASML 的出口許可。
雷鋒網注：圖源網易
而對於此前已經購買的價值 1.5 億美元的 EUV 光刻機，原計劃應在 2019 年年初就交付到中國。不過，後來 ASML 方面因倉庫遇火延後了 EUV 光刻機的交付時間，改為在 2020 年的年中交付。
在媒體首次報道延遲交貨時，荷蘭 ASML 公司表示，公司仍在等待新許可證申請的批准，並拒絕進一步給予評論。
另外，對於美國政府的施壓的説法，荷蘭外交部發言人在 1 月 15 日表示，在決定是否簽發出口許可證時，荷蘭政府要權衡經濟和安全利益。
關於此事，中國方面也表明了態度。2020 年 1 月 17 日，據《金融時報》報道，中國駐荷蘭大使徐宏在採訪中表示，如果媒體報道屬實，即如美國向荷蘭施壓，荷蘭政府因此不再批准向中國出口 EUV 光刻機，那麼這種做法就是典型的將商業問題政治化。按照相關法律及國際協議，美國沒有理由要求荷方限制 ASML 對華出口。
另外，徐宏還表示，希望荷蘭政府能綜合考慮自身利益、荷蘭企業利益，本着公平貿易及法治的精神，作出正確判斷。如果荷蘭政府在政策取向上追隨美國，基於政治原因對中荷經貿往來施加不公平的限制，毫無疑問將會影響兩國合作。因為所有的合作都應當是對等互惠的。
EUV 光刻機是何物？
在主流微電子製造過程中，光刻是最複雜、昂貴和關鍵的工藝，佔總成本的 1/3；目前的 28nm工藝則需要 20 道以上光刻步驟，耗費時間約佔整個硅片工藝的 40-60%。
光刻工藝決定着整個 IC 工藝的特徵、尺寸，代表着工藝技術發展水平。由於高技術要求，光刻機制造難度極大，全世界只有少數幾家公司能夠製造，主要有 ASML、Nikon 和 Canon 等。
而 EUV 光刻機作為現今最先進的芯片製造設備，是唯一能夠生產 7nm 以下製程的設備，因此，其也被稱為“突破摩爾定律的救星”。也就是説，必須使用 EUV 光刻機才能使半導體芯片進入 7nm，甚至 5nm 時代。
在 EUV 光刻機的生產上，ASML 公司是該領域的領軍企業，同時也是全球唯一能生產 EUV 的企業。
據了解，ASML 的設備使用由激光產生，並通過巨型鏡子聚焦的極紫外（EUV）光束，在硅片（被稱為晶圓）上鋪設非常狹窄的電路。這能讓廠商製造更快、更強大的微處理器、內存芯片和其他先進元件；而這些元件不論是對消費類電子產，還是對軍事應用來説都至關重要。
另外，值得一提的是，目前，國內光刻機廠商有上海微電子、中電科集團四十五研究所、合肥芯碩半導體等，但由於技術難度巨大，但短期內還是處於相對劣勢的地位。
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作者/編輯：肖漫